Equipments Details
Description
主要規格:
解析度:SEI:2.5 nm(30 kV), 15 nm(1kV)
BEI:4.0 nm
倍率:×5 to ×100,000
加速電壓:0.5kV to 30kV
探測電流:10-12~10-6A
低真空可變真空度:1 to 270 Pa
樣品最大容許:直徑150 mm × 高度10 mm
及時影像顯示:2560 × 1820 pixels
試片移動範圍:X 軸:80 mm Y 軸:40 mm Z 軸:5 to 48mm
旋轉:360∘ 傾斜角度:-10 to +90∘
EDS:
廠牌/型號:OXFORD/INCA 350
解析度 ≤ 133 eV
晶體偵測器 Si (Li)
元素偵測範圍 B5 ~ U92
解析度:SEI:2.5 nm(30 kV), 15 nm(1kV)
BEI:4.0 nm
倍率:×5 to ×100,000
加速電壓:0.5kV to 30kV
探測電流:10-12~10-6A
低真空可變真空度:1 to 270 Pa
樣品最大容許:直徑150 mm × 高度10 mm
及時影像顯示:2560 × 1820 pixels
試片移動範圍:X 軸:80 mm Y 軸:40 mm Z 軸:5 to 48mm
旋轉:360∘ 傾斜角度:-10 to +90∘
EDS:
廠牌/型號:OXFORD/INCA 350
解析度 ≤ 133 eV
晶體偵測器 Si (Li)
元素偵測範圍 B5 ~ U92
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