利用奈米金屬透鏡提升微影解析度和製程穩定度

現有微影技術上的解析度提升是縮短波長和改變透鏡的數值孔徑來達成。但此種方法須要較高的成本。而執行此計畫的目的，將會產生一套低成本且具有細微的光學解析度。可以利用一般的紫光雷射波長(365nm-442nm)來達成細微的微影解析度，可製作出具有特殊轉角的圖形，也可以提升半導體製程的穩定度提升。此技術可以應用在一些小面積加工和微系統的應用上。