利用奈米金屬透鏡的近場和遠場的光學特性於先進光學微影技術

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Description

摩爾定律的推動下,半導體製造商需要利用光學微影技術來微縮積體電路,提升電晶體密度。現有的光學微影技術設備商,是利用昂貴的浸潤式或是極紫外光的機台,配合光罩鄰近補償。來微縮積體電路上的圖案。在本計畫中,我們設計與製造金屬奈米結構來做為新型的光學透鏡,應用於光學微影。由於入射光在金屬奈米結構上會產生表面電漿,而使其穿透光具有異常穿透及微小聚焦光點特性,我們將利用此特性所產生的近場與遠場光學行為,應用於黃光微影製程上。以近場光學的行為而言,表面電漿會強拘束在金屬表面傳遞,我們將會開發一套設計法則,適當的在金屬表面設計結構,利用表面電漿在近場範圍中增加光學對比,增強微影技術中的圖案保真度和圖案均勻度。此外我們將會設計一套軟性光罩,使得光罩上產生的表面電漿在近場範圍中可以完全貼合在基板上曝光,也可以在曲面基材上進行圖案轉移。以遠場光學的行為而言,由於表面電漿波在金屬表面結構傳遞時,在表面上會產生散射光出射至遠場範圍,我們將利用有限時域差分法計算出近場光散射至遠場的能量,並且配合不同的入射光偏極態,配合所設計的結構使其出射光具有一定的聚焦深度和微小光點。我們也將此結構整合至位移平台,使整套系統可以在光阻上刻寫出線寬小於80奈米的自由圖型。
StatusFinished
Effective start/end date20-08-0121-07-31