無光罩灰階曝光與三維微結構製程技術的開發與應用( II )

Project: Research project

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Description

「無光罩曝光」(Maskless UV Lithography) 是未來的科技趨勢,特別在台灣的主流產業,例如:半導體產業、電子封裝、印刷電路板、平面顯示器、光電元件…等等,其應用範圍日益廣泛,並逐步取代傳統式的曝光機台。本計畫延續先前研究團隊所建構的無光罩曝光技術與機台,配合合作廠商(台郡科技公司)共同將無光罩曝光技術與機台升級,目標是可以執行高精度的灰階曝光,並應用於產業界中3D微結構的製程技術;本計畫之研發成果與所建立之技術與機台,除了可以直接應用於國內上述的各類產業,同時可以帶動台灣在無光罩曝光的相關研究與技術自主性,具有學術領先與研究開創的意義。
StatusFinished
Effective start/end date21-06-0122-05-31