三維形狀微奈米結構

一種三維形狀微奈米結構之製造方法係應用於一基板，第二蝕刻材料層位於基板與第一蝕刻材料層之間。製造方法包含一轉印步驟，藉由一模仁將一轉印材料層轉印至基板之第一蝕刻材料層；一第一蝕刻步驟，係以基板上之轉印材料層作為遮罩，對第一蝕刻材料層及第二蝕刻材料層進行蝕刻；以及一第二蝕刻步驟，對第一蝕刻材料層及第二蝕刻材料層進行蝕刻，且使第一蝕刻材料層具有一第一蝕刻率，第二蝕刻材料層具有一第二蝕刻率，第一蝕刻率與第二蝕刻率之比值小於30，而使第一蝕刻材料層完全蝕刻完，而留下已蝕刻之第二蝕刻材料層。