Abstract
一種多孔隙介電質的孔隙性質測量器及其測量方法，所述測量器包含：一基層、間隔披覆在該基層上的一源極層與一汲極層、一設在源極層與汲極層上方並具有數個孔隙的多孔隙介電質層，及一披覆在多孔隙介電質層表面的閘極層。而本發明多孔隙介電質的孔隙性質測量方法，是配合本發明測量器與一參考電晶體來進行，該測量方法為：分別測量參考電晶體與測量器的電性特性
| Original language | Chinese (Traditional) |
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| Patent number | I429003 |
| Publication status | Published - 1800 |