奈米微影方法

Dung-Ching Perng (Inventor)

Research output: Patent

Abstract

一種奈米微影方法,於第一導電基板上沉積一介電層、一金屬層與一第一阻劑層,再以電子束或極紫外光感應第一阻劑層而構成圖樣區,並將圖樣區及圖樣區正下方的金屬層與介電層蝕刻掉,且於第一導電基板頂面外露區域成長直立奈米線,再將第一阻劑層移除而構成奈米線圖罩,並於第一導電基板與金屬層間施加一脈衝電壓,使該等奈米線發射電子
Original languageChinese (Traditional)
Patent numberI348078
Publication statusPublished - 1800

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