表面修飾轉印技術製作氧化物薄膜圖案之方法

Research output: Patent

Abstract

一種表面修飾轉印技術製作氧化物薄膜圖案之方法,包含:(A)準備一模具與一基板。(B)在該模具上披覆一個電解質單元。(C)利用液相沈積法於該電解質單元上披覆一層氧化物薄膜層。(D)在該基板表面披覆一層輔助轉印層。(E)將模具與基板貼附壓合,該氧化物薄膜層即轉印附著於該輔助轉印層上,以形成氧化物薄膜圖案。藉由電解質單元來作模具表面的親水性修飾處理,以利於後續使用液相沈積法將氧化物薄膜層沈積於該模具上,故本發明的製程快速簡單、成本低,並實現氧化物薄膜圖案之轉移技術。
Original languageChinese
Patent numberI348072
Publication statusPublished - 1800

Cite this

@misc{29e0e1143b674377abb361c8157a1a21,
title = "表面修飾轉印技術製作氧化物薄膜圖案之方法",
abstract = "一種表面修飾轉印技術製作氧化物薄膜圖案之方法,包含:(A)準備一模具與一基板。(B)在該模具上披覆一個電解質單元。(C)利用液相沈積法於該電解質單元上披覆一層氧化物薄膜層。(D)在該基板表面披覆一層輔助轉印層。(E)將模具與基板貼附壓合,該氧化物薄膜層即轉印附著於該輔助轉印層上,以形成氧化物薄膜圖案。藉由電解質單元來作模具表面的親水性修飾處理,以利於後續使用液相沈積法將氧化物薄膜層沈積於該模具上,故本發明的製程快速簡單、成本低,並實現氧化物薄膜圖案之轉移技術。",
author = "Hong, {Franklin Chau-Nan}",
year = "1800",
language = "Chinese",
type = "Patent",
note = "I348072",

}

TY - PAT

T1 - 表面修飾轉印技術製作氧化物薄膜圖案之方法

AU - Hong, Franklin Chau-Nan

PY - 1800

Y1 - 1800

N2 - 一種表面修飾轉印技術製作氧化物薄膜圖案之方法,包含:(A)準備一模具與一基板。(B)在該模具上披覆一個電解質單元。(C)利用液相沈積法於該電解質單元上披覆一層氧化物薄膜層。(D)在該基板表面披覆一層輔助轉印層。(E)將模具與基板貼附壓合,該氧化物薄膜層即轉印附著於該輔助轉印層上,以形成氧化物薄膜圖案。藉由電解質單元來作模具表面的親水性修飾處理,以利於後續使用液相沈積法將氧化物薄膜層沈積於該模具上,故本發明的製程快速簡單、成本低,並實現氧化物薄膜圖案之轉移技術。

AB - 一種表面修飾轉印技術製作氧化物薄膜圖案之方法,包含:(A)準備一模具與一基板。(B)在該模具上披覆一個電解質單元。(C)利用液相沈積法於該電解質單元上披覆一層氧化物薄膜層。(D)在該基板表面披覆一層輔助轉印層。(E)將模具與基板貼附壓合,該氧化物薄膜層即轉印附著於該輔助轉印層上,以形成氧化物薄膜圖案。藉由電解質單元來作模具表面的親水性修飾處理,以利於後續使用液相沈積法將氧化物薄膜層沈積於該模具上,故本發明的製程快速簡單、成本低,並實現氧化物薄膜圖案之轉移技術。

M3 - Patent

M1 - I348072

ER -