褶層型電容結構與製程方法

一種褶層型電容結構與製造方法，係利用電容並聯時，電容值相加的原理，實際應用於褶層型電容的結構，可應用於例如晶片型電容、晶片型電容陣列等小型化被動元件，也可應用於DRAM的記憶單元等需要單位面積電容值提高的IC製程上。其中電容器之下電極、介電層、與上電極係以一褶層方式堆疊而成，且下電極與上電極各自成一梳狀結構，此外下電極與上電極之梳狀結構係以一距離相互間隔且穿插排列，而介電層則係位於下電極與上電極之間。