Dual-phase virtual metrology method

Fan-Tien Cheng (Inventor)

Research output: Patent

Abstract

一種雙階段虛擬量測方法,藉以產生雙階段虛擬量測值來兼顧立即性與準確性。其中,第一階段推估步驟係在某一工件之製程參數資料一收集完成便立即計算此工件之第一階段虛擬量測值(VMI),俾滿足立即性之需求;第二階段推估步驟係在取得被抽測之工件的實際量測值後(用以重新訓練或調校),才重新計算此被抽測之工件所屬之卡匣內之所有工件的第二階段虛擬量測值(VMII),俾滿足準確性之需求。此外,此方法亦產生第一階段虛擬量測值和第二階段虛擬量測值之信心指標(Reliance Index;RI)和整體相似度指標(Global Similarity Index;GSI)
Original languageEnglish
Patent number823284
Publication statusPublished - 2008 Dec 10

Cite this

Cheng, F-T. (2008). Dual-phase virtual metrology method. (Patent No. 823284).
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title = "Dual-phase virtual metrology method",
abstract = "一種雙階段虛擬量測方法,藉以產生雙階段虛擬量測值來兼顧立即性與準確性。其中,第一階段推估步驟係在某一工件之製程參數資料一收集完成便立即計算此工件之第一階段虛擬量測值(VMI),俾滿足立即性之需求;第二階段推估步驟係在取得被抽測之工件的實際量測值後(用以重新訓練或調校),才重新計算此被抽測之工件所屬之卡匣內之所有工件的第二階段虛擬量測值(VMII),俾滿足準確性之需求。此外,此方法亦產生第一階段虛擬量測值和第二階段虛擬量測值之信心指標(Reliance Index;RI)和整體相似度指標(Global Similarity Index;GSI)",
author = "Fan-Tien Cheng",
year = "2008",
month = "12",
day = "10",
language = "English",
type = "Patent",
note = "823284",

}

Dual-phase virtual metrology method. / Cheng, Fan-Tien (Inventor).

Patent No.: 823284.

Research output: Patent

TY - PAT

T1 - Dual-phase virtual metrology method

AU - Cheng, Fan-Tien

PY - 2008/12/10

Y1 - 2008/12/10

N2 - 一種雙階段虛擬量測方法,藉以產生雙階段虛擬量測值來兼顧立即性與準確性。其中,第一階段推估步驟係在某一工件之製程參數資料一收集完成便立即計算此工件之第一階段虛擬量測值(VMI),俾滿足立即性之需求;第二階段推估步驟係在取得被抽測之工件的實際量測值後(用以重新訓練或調校),才重新計算此被抽測之工件所屬之卡匣內之所有工件的第二階段虛擬量測值(VMII),俾滿足準確性之需求。此外,此方法亦產生第一階段虛擬量測值和第二階段虛擬量測值之信心指標(Reliance Index;RI)和整體相似度指標(Global Similarity Index;GSI)

AB - 一種雙階段虛擬量測方法,藉以產生雙階段虛擬量測值來兼顧立即性與準確性。其中,第一階段推估步驟係在某一工件之製程參數資料一收集完成便立即計算此工件之第一階段虛擬量測值(VMI),俾滿足立即性之需求;第二階段推估步驟係在取得被抽測之工件的實際量測值後(用以重新訓練或調校),才重新計算此被抽測之工件所屬之卡匣內之所有工件的第二階段虛擬量測值(VMII),俾滿足準確性之需求。此外,此方法亦產生第一階段虛擬量測值和第二階段虛擬量測值之信心指標(Reliance Index;RI)和整體相似度指標(Global Similarity Index;GSI)

M3 - Patent

M1 - 823284

ER -

Cheng F-T, inventor. Dual-phase virtual metrology method. 823284. 2008 Dec 10.