Abstract
本發明為一種於可撓曲基材上製作三維立體圖案之方法，以光微影蝕刻的方式在矽晶圓上製作出三維立體圖案，並利用圖案轉移技術將矽晶圓上的三維立體圖案複製在可撓曲的壓印模具上，再利用微(奈)米壓印製程在可撓曲基材上製作出三維立體圖案，簡化三維立體圖案製作的程序。可運用於電子、光電及生物元件產業。
| Translated title of the contribution | 可撓曲基材上製作三維立體圖案之方法 |
|---|---|
| Original language | English |
| Patent number | I268842 |
| Publication status | Published - 1800 |