Abstract
本發明係關於一種流體晶片及其製造方法。該流體晶片包括一底層、一接合層及一頂層。該接合層位於該底層上,該接合層之材質係為親水性高分子。該頂層位於該接合層上,該頂層包括至少一流體儲存槽及至少一流道,該流體儲存槽係連通該流道。藉此,該接合層得以低溫接合該頂層及該底層,且該流道不需任何表面加工即具有高親水性,而得以驅動該流體。
| Translated title of the contribution | 流體晶片及其製造方法 |
|---|---|
| Original language | English |
| Patent number | I405709 |
| Publication status | Published - 1800 |