一種壓印製程方法。在此方法中，首先，提供一硬質基板，其中硬質基板係至少包含第一表面以及相對於第一表面之第二表面。接著，提供一緩衝層，其中緩衝層係設置於第二表面上。然後，形成一高分子材料層於第一表面上。之後，執行一壓印步驟，以形成一壓印圖案於高分子材料層上。接著，形成一金屬層於第一表面上。之後，移除高分子材料層。
| Original language | English |
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| Patent number | I329791 |
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| Publication status | Published - 1800 |
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title = "Imprinting process method",
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author = "Hong, {Franklin Chau-Nan} and Sheng-Yuan Chu",
year = "1800",
language = "English",
type = "Patent",
note = "I329791",
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TY - PAT
T1 - Imprinting process method
AU - Hong, Franklin Chau-Nan
AU - Chu, Sheng-Yuan
PY - 1800
Y1 - 1800
N2 - 一種壓印製程方法。在此方法中，首先，提供一硬質基板，其中硬質基板係至少包含第一表面以及相對於第一表面之第二表面。接著，提供一緩衝層，其中緩衝層係設置於第二表面上。然後，形成一高分子材料層於第一表面上。之後，執行一壓印步驟，以形成一壓印圖案於高分子材料層上。接著，形成一金屬層於第一表面上。之後，移除高分子材料層。
AB - 一種壓印製程方法。在此方法中，首先，提供一硬質基板，其中硬質基板係至少包含第一表面以及相對於第一表面之第二表面。接著，提供一緩衝層，其中緩衝層係設置於第二表面上。然後，形成一高分子材料層於第一表面上。之後，執行一壓印步驟，以形成一壓印圖案於高分子材料層上。接著，形成一金屬層於第一表面上。之後，移除高分子材料層。
M3 - Patent
M1 - I329791
ER -