MANUFACTURING METHOD OF PHOTOMASK

Yung-Chun Lee (Inventor)

Research output: Patent

Abstract

一種光罩之製造方法包含:提供一基板,基板之一側具有複數凸狀物,各凸狀物之一頂部為漸縮結構;形成一遮光層於基板之該側且覆蓋該等凸狀物;形成一蝕刻保護層於遮光層上;蝕刻位於該等凸狀物之頂部之該蝕刻保護層的部分;以及以剩餘之蝕刻保護層作為遮罩對遮光層進行蝕刻。
Translated title of the contribution光罩之製造方法
Original languageEnglish
Patent numberI477893
Publication statusPublished - 1800

Cite this

Lee, Y-C. (1800). MANUFACTURING METHOD OF PHOTOMASK. (Patent No. I477893).