Method for locating landmarks on cephalogram

Jia-Kuang Liu (Inventor), Kuo-Sheng Cheng (Inventor)

Research output: Patent

Abstract

本發明係揭露一種測顱片界標定位方法。在此測顱片界標定位方法中,首先提供測顱片之描軌圖樣板,其中每一樣板描軌圖具有描軌圖界標點座標。接著,對每一描軌圖進行第一特徵擷取步驟,以擷取每一描軌圖之描軌圖特徵。然後,進行第二特徵擷取步驟,以擷取目標測顱片之測顱片特徵。接著,進行特徵比較步驟,以根據測顱片特徵和每一描軌圖之描軌圖特徵,來從描軌圖中選取最小誤差描軌圖。然後,進行界標點調整步驟,以根據測顱片特徵和最小誤差描軌圖之描軌圖特徵,來調整最小誤差描軌圖之描軌圖界標點座標,以獲得測顱片之測顱片界標點座標。
Translated title of the contribution測顱片界標定位方法
Original languageEnglish
Patent numberI368495
Publication statusPublished - 1800

Cite this

Liu, J-K., & Cheng, K-S. (1800). Method for locating landmarks on cephalogram. (Patent No. I368495).