Abstract
一種光固化式微奈米圖案之接觸轉印方法。此方法包含下列步驟。提供模仁，其中模仁之表面包含圖案結構，且此圖案結構包含至少一凸出部與至少一凹陷部。形成轉印材料層至少位於凸出部上。提供基板，其中此基板之表面設有感光型固化材料層。將凸出部上之轉印材料層壓合在感光型固化材料層上。對感光型固化材料層進行照射步驟，以固化感光型固化材料層，而將凸出部上之轉印材料層固定在感光型固化材料層中。移除模仁。以轉印材料層作為遮罩，對感光型固化材料層進行圖案化步驟，直至暴露出基板之表面的一部分。
| Translated title of the contribution | 光固化式微奈米圖案之接觸轉印方法 |
|---|---|
| Original language | English |
| Patent number | I412891 |
| Publication status | Published - 1800 |