Nanoimprint lithography having a solvent-free liquid polymer resist

Franklin Chau-Nan Hong (Inventor), Lien-Chung Hsu (Inventor)

Research output: Patent

Abstract

本發明為無溶劑型液態高分子阻劑之壓印圖案轉移製程,主要特徵在於利用高分子材料與單體混合均勻,並加入熱起始劑混合而成無溶劑型液態高分子阻劑,將已製備的高分子阻劑運用於壓印圖案轉移製程,因高分子阻劑之流動率良好,於壓印製程中產生的殘餘層較少,故花費在蝕刻殘餘層之時間較少,並可防止過度蝕刻而破壞轉移圖案。而本發明所製備之高分子阻劑可運用於矽晶片之硬式基材及聚乙烯對苯二甲酸酯之軟式基材。
Translated title of the contribution無溶劑型液態高分子阻劑之壓印圖案轉移製程
Original languageEnglish
Patent numberI300386
Publication statusPublished - 1800

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