Abstract
一種光學式奈米熱壓印製程,至少包括:先提供模仁,具有相對之第一表面與第二表面,且模仁之第一表面設有壓印圖案;再形成加熱光源吸收層於模仁之第一表面上;並提供基板,具有相對之第一表面與第二表面,其中基板之第一表面上設有高分子材料層;再將模仁放置在基板之第一表面上,並使模仁之第一表面與基板之第一表面彼此相對;從基板之第二表面對該基板施加預壓力
| Translated title of the contribution | 光學式奈米熱壓印製程 |
|---|---|
| Original language | English |
| Patent number | I342986 |
| Publication status | Published - 1800 |