PHOTOMASK

Yung-Chun Lee (Inventor)

Research output: Patent

Abstract

一種光罩包含一基板以及一遮光層。基板具有複數凸狀部突出於基板之一表面,各凸狀部具有複數側面及一頂面,該等側面連接頂面與表面。遮光層設置於各凸狀部之該等側面上以及表面,且各頂面之至少一部分不被遮光層覆蓋。由於遮光層設置於該等側面上以及表面,可完全不覆蓋於基板之凸狀部之頂面,因此減少遮光層被光阻層之摩擦損耗,進而延長光罩之使用壽命。
Translated title of the contribution光罩
Original languageEnglish
Patent numberI478210
Publication statusPublished - 1800

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