PHOTOMASK AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK

Yung-Chun Lee (Inventor)

Research output: Patent

Abstract

本發明為一種光罩的製造方法。步驟包括:提供一基板。於基板上形成複數個微結構,其中各該微結構為一漸縮柱狀結構或一漸縮錐狀結構。提供一液態遮光溶液。於基板上旋轉塗佈、霧化噴塗或澆鑄液態遮光溶液,使基板上形成遮光層。固化該遮光層。
Translated title of the contribution光罩以及光罩的製造方法
Original languageEnglish
Patent numberI559074
Publication statusPublished - 2016 Mar 16

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