PHOTOMASK AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK

Yung-Chun Lee (Inventor)

Research output: Patent

Abstract

本發明為一種光罩的製造方法。步驟包括:提供一基板。於基板上形成複數個微結構,其中各該微結構為一漸縮柱狀結構或一漸縮錐狀結構。提供一液態遮光溶液。於基板上旋轉塗佈、霧化噴塗或澆鑄液態遮光溶液,使基板上形成遮光層。固化該遮光層。
Original languageEnglish
Patent numberI559074
Publication statusPublished - 2016 Mar 16

Cite this

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title = "PHOTOMASK AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK",
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author = "Yung-Chun Lee",
year = "2016",
month = "3",
day = "16",
language = "English",
type = "Patent",
note = "I559074",

}

TY - PAT

T1 - PHOTOMASK AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK

AU - Lee, Yung-Chun

PY - 2016/3/16

Y1 - 2016/3/16

N2 - 本發明為一種光罩的製造方法。步驟包括:提供一基板。於基板上形成複數個微結構,其中各該微結構為一漸縮柱狀結構或一漸縮錐狀結構。提供一液態遮光溶液。於基板上旋轉塗佈、霧化噴塗或澆鑄液態遮光溶液,使基板上形成遮光層。固化該遮光層。

AB - 本發明為一種光罩的製造方法。步驟包括:提供一基板。於基板上形成複數個微結構,其中各該微結構為一漸縮柱狀結構或一漸縮錐狀結構。提供一液態遮光溶液。於基板上旋轉塗佈、霧化噴塗或澆鑄液態遮光溶液,使基板上形成遮光層。固化該遮光層。

M3 - Patent

M1 - I559074

ER -