PHOTOMASK AND METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK

Research output: Patent

Abstract

一種光罩的製造方法，其步驟包括：提供可撓性基板。於可撓性基板上形成複數個微結構。於可撓性基板上塗佈遮光材料，使基板形成遮光層。固化遮光層，且遮光層為單一層體。

Translated title of the contribution	光罩及光罩的製造方法
Original language	English
Patent number	I592741
Publication status	Published - 2016 Jan 1

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title = "PHOTOMASK AND METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK",

abstract = "一種光罩的製造方法，其步驟包括：提供可撓性基板。於可撓性基板上形成複數個微結構。於可撓性基板上塗佈遮光材料，使基板形成遮光層。固化遮光層，且遮光層為單一層體。",

author = "Yung-Chun Lee",

year = "2016",

month = jan,

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language = "English",

type = "Patent",

note = "I592741",

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TY - PAT

T1 - PHOTOMASK AND METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK

AU - Lee, Yung-Chun

PY - 2016/1/1

Y1 - 2016/1/1

N2 - 一種光罩的製造方法，其步驟包括：提供可撓性基板。於可撓性基板上形成複數個微結構。於可撓性基板上塗佈遮光材料，使基板形成遮光層。固化遮光層，且遮光層為單一層體。

AB - 一種光罩的製造方法，其步驟包括：提供可撓性基板。於可撓性基板上形成複數個微結構。於可撓性基板上塗佈遮光材料，使基板形成遮光層。固化遮光層，且遮光層為單一層體。

M3 - Patent

M1 - I592741

ER -