Pneumatic rotary coating method and device for thin films on surfaces of round workpieces

Yung-Chun Lee (Inventor)

Research output: Patent

Abstract

本發明係有關於一種氣壓旋轉式圓形工作件表面薄膜塗佈方法及設備,其係將要塗佈的圓形工作件架置於旋轉機構上,並以原料載入機構將高分子溶液預置在圓形工作件表面;當啟動旋轉機置,且調控不同的轉速來產生不同大小的離心力,以調控滾筒上之高分子溶液的初始厚度;又,待滾筒上之高分子溶液達到預設之初始厚度時,開啟氣壓閥,使高壓氣體於滾筒的四週形成一環形高壓氣流,將高分子溶液壓平到指定厚度;據此,即可將液狀之高分子溶液均勻以周圍環繞之方向及縱向在圓形工作件表面上塗佈,而該均勻塗佈於圓形工作件表面上之分子層厚度為1微米之十分之幾至100微米,本方法亦可將分子層塗佈於前述之圓形工作件之內表面。
Original languageEnglish
Patent numberZL201010221277.9
Publication statusPublished - 2012 Jan 11

Cite this

@misc{6445c6e717ec4ad58e49b1d039697319,
title = "Pneumatic rotary coating method and device for thin films on surfaces of round workpieces",
abstract = "本發明係有關於一種氣壓旋轉式圓形工作件表面薄膜塗佈方法及設備,其係將要塗佈的圓形工作件架置於旋轉機構上,並以原料載入機構將高分子溶液預置在圓形工作件表面;當啟動旋轉機置,且調控不同的轉速來產生不同大小的離心力,以調控滾筒上之高分子溶液的初始厚度;又,待滾筒上之高分子溶液達到預設之初始厚度時,開啟氣壓閥,使高壓氣體於滾筒的四週形成一環形高壓氣流,將高分子溶液壓平到指定厚度;據此,即可將液狀之高分子溶液均勻以周圍環繞之方向及縱向在圓形工作件表面上塗佈,而該均勻塗佈於圓形工作件表面上之分子層厚度為1微米之十分之幾至100微米,本方法亦可將分子層塗佈於前述之圓形工作件之內表面。",
author = "Yung-Chun Lee",
year = "2012",
month = "1",
day = "11",
language = "English",
type = "Patent",
note = "ZL201010221277.9",

}

TY - PAT

T1 - Pneumatic rotary coating method and device for thin films on surfaces of round workpieces

AU - Lee, Yung-Chun

PY - 2012/1/11

Y1 - 2012/1/11

N2 - 本發明係有關於一種氣壓旋轉式圓形工作件表面薄膜塗佈方法及設備,其係將要塗佈的圓形工作件架置於旋轉機構上,並以原料載入機構將高分子溶液預置在圓形工作件表面;當啟動旋轉機置,且調控不同的轉速來產生不同大小的離心力,以調控滾筒上之高分子溶液的初始厚度;又,待滾筒上之高分子溶液達到預設之初始厚度時,開啟氣壓閥,使高壓氣體於滾筒的四週形成一環形高壓氣流,將高分子溶液壓平到指定厚度;據此,即可將液狀之高分子溶液均勻以周圍環繞之方向及縱向在圓形工作件表面上塗佈,而該均勻塗佈於圓形工作件表面上之分子層厚度為1微米之十分之幾至100微米,本方法亦可將分子層塗佈於前述之圓形工作件之內表面。

AB - 本發明係有關於一種氣壓旋轉式圓形工作件表面薄膜塗佈方法及設備,其係將要塗佈的圓形工作件架置於旋轉機構上,並以原料載入機構將高分子溶液預置在圓形工作件表面;當啟動旋轉機置,且調控不同的轉速來產生不同大小的離心力,以調控滾筒上之高分子溶液的初始厚度;又,待滾筒上之高分子溶液達到預設之初始厚度時,開啟氣壓閥,使高壓氣體於滾筒的四週形成一環形高壓氣流,將高分子溶液壓平到指定厚度;據此,即可將液狀之高分子溶液均勻以周圍環繞之方向及縱向在圓形工作件表面上塗佈,而該均勻塗佈於圓形工作件表面上之分子層厚度為1微米之十分之幾至100微米,本方法亦可將分子層塗佈於前述之圓形工作件之內表面。

M3 - Patent

M1 - ZL201010221277.9

ER -