PRETREATMENT PROCESS OF SUBSTRATE IN MICRO-NANO IMPRINTING TECHNOLOGY

Franklin Chau-Nan Hong (Inventor)

Research output: Patent

Abstract

一種微奈米壓印技術之基板的前處理製程,至少包括將基板置入反應室中、以及對基板進行電漿或離子處理。在進行基板之電漿處理時,先於反應室中通入反應氣體,再利用此反應氣體形成電漿,以使電漿與基板產生物理反應以及化學反應,來去除吸附於基板表面上之微粒和污染物,並活化基板表面。在進行基板離子處理時,於反應室中置入離子源,再利用離子源產生的離子或中性原子撞擊基板,與基板產生物理反應以及化學反應,來去除吸附於基板表面上之微粒和污染物,並活化基板表面。
Translated title of the contribution微奈米壓印技術之基板的前處理製程
Original languageEnglish
Patent numberI240328
Publication statusPublished - 1800

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