Process for pattern transfer by back flash technique

Franklin Chau-Nan Hong (Inventor), Lien-Chung Hsu (Inventor)

Research output: Patent

Abstract

本發明係提供一種反向感光壓印圖案轉移製程,係利用蝕刻良好具有凹凸圖案之模板,而模板材料不需透明,不限材料,並將液態感光阻抗層,塗佈於模板之凹凸圖案上,之後將可透光之透明基材以其鍍有導電薄膜之一面附著至液態感光阻抗層上,且以光源由透明基材之另一面照射,待液態感光阻抗層聚合固化後,將模板與透明基材及固化之液態感光阻抗層離形,如比,即可完成圖案轉移;可使液態感光阻抗層之壓印圖案轉移製程不會受模板是否透明而限制,進而節省傳統製造透明模板時間。
Translated title of the contribution反向感光壓印圖案轉移製程
Original languageEnglish
Patent numberI234194
Publication statusPublished - 1800

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