REVERSAL MICRO/NANO IMPRINTING PROCESS WITHOUT RESIDUAL LAYER OF RESIST

Franklin Chau-Nan Hong (Inventor)

Research output: Patent

Abstract

一種無殘留層之逆式微奈米壓印製程(Reversal Micro/Nano-Imprinting Process)。在此製程中,先提供一具有一微米或奈米尺度圖案之模板,且圖案具有至少一開口區。以真空沈積或是化學鍵結之方式形成一脫膜層覆蓋在上述模板之表面上。再利用界面活性劑在此表面上作表面處理,使之形成一界面活性層覆蓋在此脫膜層上。並移除模板表面上之開口區外的界面活性層。接著,進行一阻劑塗佈步驟,使阻劑填入開口區中。隨後提供一任意基板,進行接觸壓印步驟,而將模板之表面與基板之表面完全貼合,藉此將模板圖案完全的轉印至基板之表面上,而且沒有阻劑殘留層之問題。
Translated title of the contribution無殘留層之逆式微奈米壓印製程
Original languageEnglish
Patent numberI252520
Publication statusPublished - 1800

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