SILICON MATERIAL HAVING A MARK ON THE SURFACE THEREOF AND THE METHOD FOR MAKING THE SAME

Chen-Kuei Chung (Inventor)

Research output: Patent

Abstract

本發明係關於一種表面上具有標記之矽材料及其形成方法。該方法包括以下步驟:(a)提供一矽材料;(b)提供一玻璃基板;(c)設置該矽材料於該玻璃基板之上;及(d)將一二氧化碳雷射打在該矽材料上,以形成一標記於該矽材料之下表面,該標記之材質係為氧化矽。藉此,可以利用便宜之二氧化碳雷射於該矽材料上形成標記,且該標記可以利用適當化學藥品去除而再利用該矽材料。
Original languageEnglish
Patent numberI296735
Publication statusPublished - 1800

Cite this

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title = "SILICON MATERIAL HAVING A MARK ON THE SURFACE THEREOF AND THE METHOD FOR MAKING THE SAME",
abstract = "本發明係關於一種表面上具有標記之矽材料及其形成方法。該方法包括以下步驟:(a)提供一矽材料;(b)提供一玻璃基板;(c)設置該矽材料於該玻璃基板之上;及(d)將一二氧化碳雷射打在該矽材料上,以形成一標記於該矽材料之下表面,該標記之材質係為氧化矽。藉此,可以利用便宜之二氧化碳雷射於該矽材料上形成標記,且該標記可以利用適當化學藥品去除而再利用該矽材料。",
author = "Chen-Kuei Chung",
year = "1800",
language = "English",
type = "Patent",
note = "I296735",

}

TY - PAT

T1 - SILICON MATERIAL HAVING A MARK ON THE SURFACE THEREOF AND THE METHOD FOR MAKING THE SAME

AU - Chung, Chen-Kuei

PY - 1800

Y1 - 1800

N2 - 本發明係關於一種表面上具有標記之矽材料及其形成方法。該方法包括以下步驟:(a)提供一矽材料;(b)提供一玻璃基板;(c)設置該矽材料於該玻璃基板之上;及(d)將一二氧化碳雷射打在該矽材料上,以形成一標記於該矽材料之下表面,該標記之材質係為氧化矽。藉此,可以利用便宜之二氧化碳雷射於該矽材料上形成標記,且該標記可以利用適當化學藥品去除而再利用該矽材料。

AB - 本發明係關於一種表面上具有標記之矽材料及其形成方法。該方法包括以下步驟:(a)提供一矽材料;(b)提供一玻璃基板;(c)設置該矽材料於該玻璃基板之上;及(d)將一二氧化碳雷射打在該矽材料上,以形成一標記於該矽材料之下表面,該標記之材質係為氧化矽。藉此,可以利用便宜之二氧化碳雷射於該矽材料上形成標記,且該標記可以利用適當化學藥品去除而再利用該矽材料。

M3 - Patent

M1 - I296735

ER -