SURFACE COATING STRUCTURE AND PRODUCTION METHOD THEREOF

Research output: Patent

Abstract

本發明係揭露一種表面鍍膜結構及其製造方法,適用於太陽熱電系統。此表面鍍膜結構包含基板、緩衝中介層、吸收層及抗反射層。基板由耐高溫、高熱係數材質所構成,再使用化學氣相沉積法或物理氣相沉積法於基板上接續沉積緩衝中介層、吸收層及抗反射層。緩衝中介曾為鬆弛基板與吸收層之間熱膨脹應力;吸收層為吸收及捕陷太陽能的膜層,具有陷光效果的立體多孔狀陷光結構;抗反射層則為降低太陽光反射率,增加吸收層吸收光線比例及進一步提升陷光效果。
Original languageEnglish
Patent numberI488320
Publication statusPublished - 1800

Cite this

@misc{d02b387884034ddd9469979648d3b188,
title = "SURFACE COATING STRUCTURE AND PRODUCTION METHOD THEREOF",
abstract = "本發明係揭露一種表面鍍膜結構及其製造方法,適用於太陽熱電系統。此表面鍍膜結構包含基板、緩衝中介層、吸收層及抗反射層。基板由耐高溫、高熱係數材質所構成,再使用化學氣相沉積法或物理氣相沉積法於基板上接續沉積緩衝中介層、吸收層及抗反射層。緩衝中介曾為鬆弛基板與吸收層之間熱膨脹應力;吸收層為吸收及捕陷太陽能的膜層,具有陷光效果的立體多孔狀陷光結構;抗反射層則為降低太陽光反射率,增加吸收層吸收光線比例及進一步提升陷光效果。",
author = "Chin-Hsiang Cheng",
year = "1800",
language = "English",
type = "Patent",
note = "I488320",

}

TY - PAT

T1 - SURFACE COATING STRUCTURE AND PRODUCTION METHOD THEREOF

AU - Cheng, Chin-Hsiang

PY - 1800

Y1 - 1800

N2 - 本發明係揭露一種表面鍍膜結構及其製造方法,適用於太陽熱電系統。此表面鍍膜結構包含基板、緩衝中介層、吸收層及抗反射層。基板由耐高溫、高熱係數材質所構成,再使用化學氣相沉積法或物理氣相沉積法於基板上接續沉積緩衝中介層、吸收層及抗反射層。緩衝中介曾為鬆弛基板與吸收層之間熱膨脹應力;吸收層為吸收及捕陷太陽能的膜層,具有陷光效果的立體多孔狀陷光結構;抗反射層則為降低太陽光反射率,增加吸收層吸收光線比例及進一步提升陷光效果。

AB - 本發明係揭露一種表面鍍膜結構及其製造方法,適用於太陽熱電系統。此表面鍍膜結構包含基板、緩衝中介層、吸收層及抗反射層。基板由耐高溫、高熱係數材質所構成,再使用化學氣相沉積法或物理氣相沉積法於基板上接續沉積緩衝中介層、吸收層及抗反射層。緩衝中介曾為鬆弛基板與吸收層之間熱膨脹應力;吸收層為吸收及捕陷太陽能的膜層,具有陷光效果的立體多孔狀陷光結構;抗反射層則為降低太陽光反射率,增加吸收層吸收光線比例及進一步提升陷光效果。

M3 - Patent

M1 - I488320

ER -