Abstract
本發明係關於一種降解戴奧辛同源物或類戴奧辛同源物之反應系統及方法。該降解戴奧辛同源物或類戴奧辛同源物之反應系統包括：一反應槽、一曝氣裝置、一儲存槽、以及一循環裝置，並且藉由控制該降解戴奧辛同源物或類戴奧辛同源物之反應系統之曝氣及循環條件，可使高氯戴奧辛快速且有效地降解以達到整治戴奧辛汙染土壤的效果。
| Translated title of the contribution | 降解戴奧辛同源物或類戴奧辛同源物之反應系統及方法 |
|---|---|
| Original language | English |
| Patent number | I487786 |
| Publication status | Published - 1800 |