以射頻磁控濺鍍系統製備二氧化錫與複合薄膜(二氧化錫/奈米銀粒子/二氧化錫)的基礎特性與電性之研究

Translated title of the thesis: Study on characterization and electrical properties of SnO2 films and composite films (SnO2/nano-Ag/SnO2) by R F magnetron sputtering deposition
  • 許 家泰

Student thesis: Master's Thesis

Abstract

本研究利用射頻磁控濺鍍系統在矽基板上沉積不同參數(濺鍍?率與氣氛及基板溫度)的二氧化錫薄膜與奈米銀粒子/二氧化錫複合薄膜(SnO2/nano-Ag/ SnO2)。由X光繞射分析儀得知:製備出的SnO2薄膜為正方晶系金紅石結構；從場發射掃描式電子顯微鏡可知:氧化銀(AgOX)在不同的真空後退火時間會使nano-Ag之顆粒大小與分布有所不同。由紫外光-可見光光譜儀觀察到:單層SnO2薄膜之可見光穿透度皆大於70%，加入奈米銀之複合薄膜其可見光穿透度大於單層SnO2薄膜，但其能隙小於單層SnO2薄膜。原子力顯微鏡得知: SnO2薄膜在較高能量(高濺鍍?率與基板溫度)下製備具有較大的晶粒與表面粗糙度。微觀的導電力顯微鏡可觀察到SnO2薄膜中的結晶顆粒具有相分離的現象，且與巨觀的導電量測(凡德堡法)所得之結果一致，但複合薄膜則否。本研究所製備出的SnO2薄膜與其複合薄膜，利用『性能指標- Figure of merit (FOM)』加以比較：於相同參數下複合薄膜有較高的FOM值；單層SnO2薄膜則在濺鍍氣氛為Ar:O2=5:5下有較高的FOM值，故製程參數對SnO2薄膜之特性有顯著之影響。
Date of Award2016 Feb 18
Original languageChinese
SupervisorYen-Hua Chen (Supervisor)

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