以射頻磁控濺鍍製備釹鈰銅氧氧化物和鐵酸鉍之薄膜特性

Translated title of the thesis: The Properties of Nd1 85Ce0 15CuO4+y and BiFeO3 Thin Films grown By RF Magnetron Sputtering
  • 李 秉樺

Student thesis: Master's Thesis

Abstract

在鐵電材料中，鐵酸鉍(BiFeO3，BFO)是同時在室溫下具有鐵電性和反鐵磁性的材料，具有做成元件的潛力。但BFO仍有漏電流問題需克服，故本研究目的是想找導電的氧化物材料來當底電極層，期望克服此問題，並討論兩種材料製作過程所遇到的問題及薄膜特性。 本研究企圖在SrTiO3 (STO)基板上成長Nd1 85Ce0 15CuO4+y (NCCO)氧化物磊晶薄膜，當作底電極，在其上成長多鐵性BiFeO3 (BFO)薄膜。NCCO單層膜以及BFO/NCCO/STO多層結構，均以射頻磁控濺鍍製備，所用之NCCO和BFO靶材則籍由固態反應燒結而成。為達到磊晶成長之目的，我們嘗試了多種濺鍍參數，并進行後續退火處理。成長於(001)STO基板上之NCCO單層膜雖有明顯的(001)擇優取向，但其中仍有少?的(110)取向，而NCCO的(110)晶粒由於晶格匹配的關係，在隨後的BFO成長中會誘導二次相Bi24Fe2O39的生成，導致BFO薄膜成長失去控制，無法形成磊晶。在電性方面，霍爾量測證實所成長之NCCO薄膜有很高的導電率，足以作?電極。
Date of Award2015 Aug 27
Original languageChinese
SupervisorXiao-Ding Qi (Supervisor)

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