光點陣列斜掃描與二維及三維無光罩微影技術

Translated title of the thesis: UV light point array oblique scanning for 2D and 3D maskless lithography
  • 楊 聰偉

Student thesis: Master's Thesis

Abstract

本研究開發了以紫外光點陣列為基礎之無光罩微影技術,系統架構使用波長405 nm的紫外光,透過數位微鏡面裝置 (Digital Micromirror Device DMD) 控制光點開關,光線通過第一鏡組成像於微透鏡陣列,並重新聚光之後通過空間濾波器,去除雜散光,接著再由第二成像鏡組將光點陣列傳遞至試片表面進行曝光。本文使用了128×96個光點陣列,實際大小為14 08×10 56 mm2,並由XYZ平台控制試片的移動;本文使用斜掃描法提高光點陣列掃描精度,利用輸入圖檔至控制板控制DMD的圖形更新,發展軟體以檢查圖形的正確性與曝光之模擬。實驗方面,選用S1813光阻,厚度為1 um,光點大小10 um,並測試簡易電路板圖形及最小圖形解析度,最終於6吋玻璃基板上曝光大面積100×50 mm2的電路圖形。實驗結果顯示所建置之無光罩曝光系統可達到最小線寬7 um,線增量2 28 um的任意不規則圖形。此外,本文也嘗試利用此一光點陣列的無光罩式曝光機進行灰階曝光與大面積3D微結構之製作。
Date of Award2018 Aug 29
Original languageChinese
SupervisorYung-Chun Lee (Supervisor)

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