半導體廠房製程用水回收量變化原因探討

Abstract

在水資源日益缺乏情況下，生產製程如何管理水回收益顯迫切。國內科學園區雖然有規定製程回收率、全廠回收率、全廠排放率三項水量指標，僅以這些指標表示整個廠房的用水效率尚有不足，難以判別廠房內部的水資源再利用成效。從每日之水量指標表現來看，之中的起伏變化透露著廠房的用水需要，而製程用水為廠房用水的大宗，製程回收率有時會低於法規標準值。 為探討廠內的用水效率，本研究分析每日之製程回收率變化，找出半導體廠房製程用水回收量之變化原因。首先了解廠房水系統和製程用水回收系統之流程，分析廠房用水特性，接著建立詳細製程用水指標，依照指標評估流程，找出每日製程回收率表現之影響水量，並後續找出影響來源，透過訪問廠內實務工程師，找出影響製程回收率變化的原因。 研究結果指出，所建立之每日詳細水量指標，可以協助快速找出製程回收率的影響水量來源。另外，每日製程回收率變化的影響因子為：輕度汙染製程排水、純水系統回收水、製程系統總用水、回收系統產水，並說明各影響因子之影響來源。最後提出關掉回收系統來改善冬季回收水溢流，此做法可減少營運成本，亦減少對環境的負荷。

Date of Award	2015 Jul 23
Original language	Chinese
Supervisor	Andrew S. Chang (Supervisor)