反平面剪力波屏蔽裝置之簡化參數設計與探討比較

Abstract

屏蔽裝置近年來發展在各個領域中，從電磁波到光學、聲學、熱傳學及彈性波，Pendry et al (2006)及Leonhardt (2006)提出在電磁波理論中利用座標轉換的概念實現屏蔽效應，但屏蔽材料在實際製造較為困難，須使用超材料來達成。本文探討反平面剪力(SH)波的屏蔽裝置，提出一階材料簡化與高階座標轉換的手法，其中一階材料簡化為藉由滿足慢度曲線(slowness curve)公式進行簡化，使得材料參數變為僅剩一個變數，而高階座標轉換手法為透過質量密度假設為定值反推高階座標轉換公式，可簡化材料僅剩二個變數。將上述二種方式應用在層狀屏蔽裝置，透過數值模擬在不同波長下的屏蔽效果。本文提出一個以2種等向性材料透過面積上的配比方法設計出20層的屏蔽裝置，因為現實中此2種材料容易取得，故增加此屏蔽裝置在實際製造上可行性。

Date of Award	2015 Aug 26
Original language	Chinese
Supervisor	Tungyang Chen (Supervisor)