改良式動態調控機制於電漿設備用阻抗匹配器之研究

Translated title of the thesis: Study on Modified Dynamic Tuning Mechanism for Matching Box Using in Plasma Chamber System
  • 吳 信宏

Student thesis: Master's Thesis

Abstract

本論文係針對射頻電漿設備用阻抗匹配器，研究並改良其動態調控機制。為使電漿製程設備於操作中維持穩定且獲得最大?率轉移，須藉由阻抗匹配器調控，令等效輸入阻抗與射頻電源特性阻抗同為50Ω，即達成阻抗匹配之目的。本文對於操作頻率13 56MHz之L型匹配網絡，探討可變元件與整體等效阻抗間靈敏度關係。建立改良型阻抗匹配調控機制，對射頻信號轉換之阻抗與相位訊號判斷，優先以阻抗值50Ω調整，調控達成等效阻抗50Ω之目的。最後於MATLAB建模分析，模擬調控機制過程與阻抗變化，藉由模擬與實驗測試結果，驗證本論文阻抗匹配調控機制可行性。
Date of Award2015 Jul 22
Original languageChinese
SupervisorJia-You Lee (Supervisor)

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