監控多階段系統製程品質管制圖之探討與研究

Translated title of the thesis: A Study on Control Charts for Monitoring and Controlling the Process Quality of Multistage Systems
  • 巫 哲嘉

Student thesis: Master's Thesis

Abstract

統計製程管制(Statistical Process Control SPC)技術是監控產品及製程品質特性的重要方法。隨著現代科技的發展日趨複雜且精密,工業界多數的產品均須經過多個階段的製造流程後,才能順利完成。例如半導體製造、印刷電路板、化學工業、航太工業、電信產業等?多工業領域之製程,皆屬多階段製造系統之範疇。在半導體工業中,金屬氧化物半導體場效電晶體 (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor MOSFET),是一種可以廣泛使用在類比電路與數位電路的場效電晶體。在金屬氧化物半導體場效電晶體的製程中,?多關鍵製程都與矽氧化層品質有關,又鑒於上述高科技製程的品質特性常具有自我相關的性質。若我們直接利用傳統的管制圖來監控自我相關製程的處理方式並不恰當。近十多年來在品質學者們的努力下,已發展出加權移動平均(Exponentially Weighted Moving Average) EWMA管制圖、累和(Cumulative Sum) CUSUM管制圖等適合偵測自我相關製程平均變動的管制圖。由於傳統的統計製程管制(SPC)在監控與改進產品品質的方法上,通常僅針對單一階段的製程進行監控與改善。因此如何建構一個有效監控多階段系統產品品質之管制圖實有其必要性。 在考慮多階段製程的情況下,本研究擬先利用新的多變項線性迴歸模型來描述跨階段製程的相關性,再利用各階段模型的殘差建構殘差EWMA管制圖、殘差卡方管制圖及殘差CUSUM(Cumulative Sum)管制圖。此外,本研究將以整體平均串長度(Overall Average Run Length)的想法作為各種多階段殘差管制圖偵測能力之評估與比較基準。 最後,我們將以一個三階段矽晶圓氧化層厚度量測資料為例來進行數值實例的驗證與說明,研究結果可推廣至一般多階段系統製程品質的監控上。
Date of Award2015 Jun 18
Original languageChinese
SupervisorJeh-Nan Pan (Supervisor)

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監控多階段系統製程品質管制圖之探討與研究
哲嘉, 巫. (Author). 2015 Jun 18

Student thesis: Master's Thesis