脈衝雷射鍍膜儀和射頻濺鍍成長氧化鋅摻雜鈷之研究

Translated title of the thesis: Study of Cobalt-doped Zinc oxide thin film deposited by pulsed Laser deposition and RF sputter
  • 許 峻維

Student thesis: Master's Thesis

Abstract

氮化鎵之發光二極體因為有效率下降的問題,所以限制了大尺寸和高?率的發展,我們利用氧化鋅摻鈷薄膜來降低效率下降的問題。本研究是將應用在發光二極體上的脈衝雷射鍍膜儀所成長的氧化鋅摻鈷薄膜,並與射頻濺鍍法鍍膜成長通入氫氣的薄膜來做比較,以利爾後在工業上的應用。因為以射頻濺鍍法所成長的氧化鋅摻鈷薄膜電阻值相當高,所以先將其結構特性做比較,之後再利用摻雜(鎵 鋁)等元素改善電性。本研究以x光吸收光譜和x光繞射法來確認其結構的變化,可以發現在調變不同的射頻濺鍍成長條件(壓力、基板溫度、瓦數等)會造成氧空缺和鈷間隙的改變,且並無二次相析出。利用x光吸收光譜和X光吸收光譜近緣結構以及延伸X光吸收光譜精細結構,可以觀察到氧和鈷未佔有軌域上的數量變化,和電子上的轉移,藉此來確認難判斷的氧空缺,並更精細確認鈷取代鋅的位置。我們也利用氧化鋅摻鈷和氧化鋅雙靶濺鍍,來調變鈷摻入氧化鋅的比例。最後,我們在(基板溫度400度、瓦數70瓦、壓力3 75E-3mbar、混入微量氫氣)成長出和脈衝雷射鍍膜儀結構相當的薄膜。
Date of Award2014 Aug 29
Original languageChinese
SupervisorJung-Chun Huang (Supervisor)

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