變溫成長BiTeSe合金之研究

Translated title of the thesis: Epitaxial Growth and Structural Characterization of BiTeSe Alloy
  • 鄧 至翔

Student thesis: Master's Thesis

Abstract

本實驗中以分子束磊晶系統(MBE)變溫成長合金薄膜Bi2Te3-xSex於Al203(0001)基板上,並利用臨場RHEED、AFM和XRD量測樣品表面與結構,確認樣品具有為良好單晶C軸優先取向且長程結構非常良好,且表面平坦的單晶薄膜,於本實驗變溫區間成長樣品,並不影響其長程結構,僅有表面特性的差異,並以XRD分析與XPS比例分析確認其薄膜合金比例為Bi2Te2Se,最後由拉曼光譜可以觀察到三種震盪模式,並發現有別以往文獻的拉曼光譜,顯示Bi2Te2Se合金薄膜是有極佳的結構;電子結構方面,由ARPES證實合金薄膜確實為拓樸絕緣體,並嘗試調變合金Bi2Te3-xSex薄膜比例,藉此觀察費米能級的移動與導帶電子貢獻的多寡;最後量測電子傳輸性質,希望能觀察到如文獻Bi2Te2Se合金薄膜有最高的電阻率,以及較低的載子濃度。
Date of Award2015 Mar 4
Original languageChinese
SupervisorJung-Chun Huang (Supervisor)

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變溫成長BiTeSe合金之研究
至翔, 鄧. (Author). 2015 Mar 4

Student thesis: Master's Thesis