電漿輔助化學氣相沈積法成長類鑽碳膜

Translated title of the thesis: Diamond-like Carbon Films Deposited by Plasma-assisted Chemical Vapor Deposition
  • 黃 羿詠

Student thesis: Master's Thesis

Abstract

類鑽碳膜具有高硬度、絕緣、耐磨耗、高熱導、抗氧化、耐腐蝕等特性,已被廣泛應用於工業界。然而,類鑽碳膜在硬度及耐磨耗上之持續提升,一直是被研發之對象。本研究利用電漿輔助化學氣相沉積法,在不同製程條件下進行一系列實驗,期望製備具有高硬度及低磨耗之類鑽碳薄膜。實驗結果顯示,基板溫度對薄膜硬度具有顯著的影響;而高壓環境以及利用C60作為輔助碳源雖然會降低薄膜硬度,然而大幅提升薄膜之耐磨耗。本研究以乙炔為碳源,成?製備硬度高達35 70 GPa之類鑽碳薄膜;利用C60作為輔助碳源,則成?製備同時具有26 48 GPa之高硬度與87 77 (10^-7mm3/mN)之低磨耗的類鑽碳薄膜;利用高壓環境,也成?製備同時具有25 38 GPa之高硬度與84 42 (10^-7mm3/mN)之低磨耗的類鑽碳薄膜。
Date of Award2014 Aug 5
Original languageChinese
SupervisorFranklin Chau-Nan Hong (Supervisor)

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