非平面之銅薄膜表面形成石墨烯之研究

Translated title of the thesis: A study of graphene formation at nonplanar copper thin film surfaces
  • 黃 仁炫

Student thesis: Master's Thesis

Abstract

石墨稀是只有一個碳原子厚度的二維材料,由於石墨稀的特殊碳鍵結,即便是單層石墨稀,原子、分子、離子是穿不透的,也已經被證明有極高的抗氧滲透的特性,也有很好的熱與化學穩定性。超薄(1 nm)石墨稀當積體電路銅內連線之擴散阻障層已被證實,其優異之阻障特性給了延續使用銅內連線之希望,因為1nm遠超越ITRS技術藍圖之要求,然而石墨稀優異之平面阻障特性並不意味著有3D阻障?能。本論文研究3D之銅薄膜表面是否可形成石墨稀及石墨稀於銅晶粒間之連續程度。 實驗結果顯示由於濺鍍之銅薄膜於高溫(900度C)退火時,銅晶粒成長相當不規則,銅表面呈現高低起伏極大之粗糙表面,石墨稀僅能在與平坦的SiO2交接之界面形成,銅薄膜上表面及側面退火後極為粗糙,TEM下找不到石墨稀之蹤影。另外,微影形成之銅線,因為高溫後de-wetting不規則,亦無法形成平滑之銅表面,因此亦未能達到石墨烯覆?銅線的目標石墨烯要能完整覆?在奈米之銅線上,未來仍有一段長遠的路需要努力。
Date of Award2016 Jul 26
Original languageChinese
SupervisorDung-Ching Perng (Supervisor)

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非平面之銅薄膜表面形成石墨烯之研究
仁炫, 黃. (Author). 2016 Jul 26

Student thesis: Master's Thesis