在無氧表面下,TPD/R實驗得知Br(C6H4)C≡CH/Cu(100)的多層分子性脫附在200 K,單層分子性脫附在225 K和370 K。得到的反應產物只有H2,脫附範圍在520 K-860 K。XPS的資訊顯示分子是利用乙炔基吸附在銅單晶上,且C-Br鍵在370 K開始斷裂並吸附在表面上,在520 K完全解離直到升溫至800 K後脫附。RAIRS和NEXAFS幫助我們分析分子吸附在表面上的結構位向。120 K的苯環和表面夾角為60o,升溫至250 K和520 K後夾角在75o和45o。有氧表面的TPD/R研究有CO、CO2、H2O及H2的產物出現。XPS得知升溫至425 K後已有部分C-Br斷裂,630 K時已測不到任何C-Br鍵訊號。
Date of Award | 2015 Jul 24 |
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Original language | Chinese |
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Supervisor | Jong-Liang Lin (Supervisor) |
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1-溴-4-乙炔苯在銅(100)和氧/銅(100)表面上的熱反應研究
育賢, 江. (Author). 2015 Jul 24
Student thesis: Master's Thesis