本研究目的在於開發磁控濺鍍法鍍製摻雜鈣 (Ca) 元素的氧化銦鎵鋅 (IGZO) 薄膜,靶材的部分由工研院提供,透過燒結使得Ca取代IGZO的In元素,製備出P型IGZO:Ca塊材;目前沒有文獻製作出P型IGZO:Ca薄膜,大多是針對N型IGZO薄膜進行研究。 實驗主要探討不同?率下P型IGZO:Ca薄膜利用室溫磁控濺鍍法製備,分別於60瓦與80瓦得到P型IGZO:Ca薄膜。利用XRD與光學分析,了解薄膜的結晶相及光學特性,XPS探討IGZO:Ca薄膜的組成比例以及氧空缺所造成的影響。 搭配霍爾量測確認薄膜半導體特性,確認適當的P型IGZO薄膜參數,最後搭配N型矽基板製作成二極體元件(diode),並觀察元件電性,是否具備整流特性。 從本實驗中得到以下的重要結果: (一) Ca 摻雜IGZO的薄膜特性為非結晶相的透明薄膜。(二) 60 W、80 W的IGZO薄膜具有P型的特性產生,該半導體變化與氧空缺及薄膜組成比例有關。(三) 60 W、80 W與n型矽基板接觸時具備整流特性分別為45 3及34 2;且在光感測器的應用方面,60 W的二極體有846 5的增益。
Date of Award | 2016 Aug 5 |
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Original language | Chinese |
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Supervisor | Sheng-Yuan Chu (Supervisor) |
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Ca摻雜P型IGZO薄膜之製備及其應用於光感測元件
昀恆, 謝. (Author). 2016 Aug 5
Student thesis: Master's Thesis