現地(in-situ)高溫高壓拉曼光學系統

儀器設備中心

設備/設施: Instrument Development Center

設備詳細資料

Description

633及458 nm 雷射激發光源
拉曼光譜範圍：70-4000 cm-1 (用458 nm雷射 )
物鏡:10X, 20X(長工作距離)及50X(長工作距離)
光譜儀: 焦距長為 0.55米，含1800/600 gr/mm光柵
光徑上可插入偏光組，可置入樣品大小可達25公分立方體積。
高壓裝置:鑽石高壓砧 (至少20 GPa), 高溫裝置可達至少攝氏1200度
高溫，高壓裝置僅限小體積(微米尺寸)之粉末或單晶樣品

連絡方式

名字Hui-Chen Kung
Phone06-2359136
電子郵件mrl.ncku@gmail.com
連結Website, Booking/Management

貸款/訂閱條款

Available for loan - internal and external

自行檢測或代工檢測，統一預約與使用時間皆為周一及周二上班時段。