現地(in-situ)高溫高壓拉曼光學系統

設施/設備: Instrument Development Center

  • 地點

    No.1, University Road, Tainan City 701, Taiwan (R.O.C.) 701

    Taiwan

設備詳細資料

Description

633及458 nm 雷射激發光源
拉曼光譜範圍:70-4000 cm-1 (用458 nm雷射 )
物鏡:10X, 20X(長工作距離)及50X(長工作距離)
光譜儀: 焦距長為 0.55米,含1800/600 gr/mm光柵
光徑上可插入偏光組,可置入樣品大小可達25公分立方體積。
高壓裝置:鑽石高壓砧 (至少20 GPa), 高溫裝置可達至少攝氏1200度
高溫,高壓裝置僅限小體積(微米尺寸)之粉末或單晶樣品