3吋化學氣相沉積石墨烯設備

    設備/設施: Facility

    • 地點

      No.1, University Road, Tainan City 701, Taiwan (R.O.C.) 701

      Taiwan

    Description

    化學氣相沉積設備,具有1吋、2吋、3吋石英爐管,並提供Ar, H2, CH4 and O2等反應氣體。可長時間使用於溫度1100℃以下的製程。主要應用於石墨烯及其他薄膜材料鍍膜,也可以當作高溫退火爐使用。

    詳細資料

    名字3吋化學氣相沉積石墨烯設備
    擷取日期15-05-14

    指紋

    Graphite
    Chemical vapor deposition
    Furnaces
    Quartz
    Gases
    Annealing
    Thin films
    Hot Temperature