電子束蒸鍍機 II

    設備/設施: Center for Micro/Nano Science and Technology

    • 地點

      No.1, University Road, Tainan City 701, Taiwan (R.O.C.) 701

      Taiwan

    設備詳細資料

    Description

    以電子束撞擊靶材的方式沉積不同金屬薄膜於基板上,最小均勻薄膜厚度100A,提供靶材金、鋁、鎳、鉑、鈦、鉻、銀。
    設備相關照片

    指紋

    探索使用此設備的研究領域。這些標籤是根據相關成果而產生。共同形成了獨特的指紋。