電子束蒸鍍機 II

    設備/設施: Center for Micro/Nano Science and Technology

    • 地點

      No.1, University Road, Tainan City 701, Taiwan (R.O.C.) 701

      Taiwan

    Description

    以電子束撞擊靶材的方式沉積不同金屬薄膜於基板上,最小均勻薄膜厚度100A,提供靶材金、鋁、鎳、鉑、鈦、鉻、銀。

    指紋

    evaporators
    wafers
    thin films
    coatings
    oxides
    glass
    silicon
    metals