前瞻聚焦離子束系統

設備/設施: Instrument Center

  • 地點

    No.1, University Road 701

    Taiwan

Description

聚焦離子束系統(focus ion beam,FIB)是廿世紀新開發的指標性儀器之一,兼聚臨場橫截面與平面分析,定點TEM試片製作,微奈米圖案與元件製作等重要功能於一機。隨著電腦運算能力的加速和機械精密加工的進步,功能也一再加強。

  優異之FIB試片製備技術,能定點切中微小區域,快速製備出滿足高解析度電子顯微鏡拍攝條件,及微區域成分分析的理想觀察試片,並搭配最新型的顯微鏡設備來觀察影像,提供完整之樣品檢測分析。

  本中心的前瞻聚焦離子束系統為雙束型離子束,所謂雙束型是指具有電子束與離子束。電子束即為掃描式電子顯微鏡,而離子束基本原理與SEM類似,僅是所使用的粒子不同( e- vs. Ga +)與透鏡型式 (磁透鏡 vs. 靜電透鏡) 位置不同。液態金屬LMIS(Liquid Metal Ion Source)則是提供離子束Ga元素來源,如下圖所示左右兩金屬棒作為電壓輸入與加熱使用,用V字形的鎢(W)線連接及支撐;被支撐物上部為一型似彈簧之螺旋,此處為Ga存留的地方。下方為一針狀結構,最下方為放射尖端。

 離子束是將Ga(鎵)元素離子化成Ga+,利用電場加速與靜電透鏡(electrostatic)聚焦,將高能量(高速)的Ga+利用物理碰撞來進行特定圖案的加工。

指紋

ion beams