單面光罩對準機

    設備/設施: Center for Micro/Nano Science and Technology

    • 地點

      No.1, University Road, Tainan City 701, Taiwan (R.O.C.) 701

      Taiwan

    設備詳細資料

    Description

    紫外光曝光機用於光蝕刻製程中之光罩圖形轉移 (最小線寬可達2微米) 。OAI 500-IR所採用的對準方式為接觸式(contact),也就是光罩與晶圓上的光阻直接接觸,紫外線就從光罩的透明區穿過而將其下的光阻進行曝光。然而由於光罩與晶圓有著不同的曲率半徑,在晶圓上只有少數點可以真正地與光罩直接接觸,而在晶圓表面上大部份區域,光罩與光阻間存在有大約1至2微米的空隙,僅管如此,接觸式曝光機最高解析度在次微米範圍。

    詳細資料

    名字單面光罩對準機
    擷取日期06-11-01

    指紋 探索使用此設備的研究領域。這些標籤是根據相關成果而產生。共同形成了獨特的指紋。