高溫二維X-RAY廣角繞射儀

設備/設施: Instrument Center

  • 地點

    No.1, University Road, Tainan City, Taiwan (R.O.C.) 701

Description

2 維X 光繞射儀(粉末X 光二維繞射儀)是近年來在材料分析領域應用上大幅增加外,除2維偵測器量測效率較一般偵測器快100 倍以上,此設備亦可選擇以反射或穿透的方式獲得X光繞射(WAXS),在織構分析(Texture)、殘留應力分析(Residual Stress)等方面可提供多元化的量測,快速獲得高品質的二維繞射圖譜。

詳細資料

名字高溫二維X-RAY廣角繞射儀