以三維列印製造之導磁性元件

研究成果: Patent

摘要

本發明提供一種以三維列印製造之導磁性元件，其係由一三維列印材料所形成，該三維列印材料包含一導磁性粒子和一熱塑性高分子。該三維列印製造之導磁性元件具有 25至275 emu/g 的飽和磁化量。

@misc{a17cb9b47d7e44158aecc519d67c2d53,

title = "以三維列印製造之導磁性元件",

abstract = "本發明提供一種以三維列印製造之導磁性元件，其係由一三維列印材料所形成，該三維列印材料包含一導磁性粒子和一熱塑性高分子。該三維列印製造之導磁性元件具有 25至275 emu/g 的飽和磁化量。",

author = "Mi-Ching Tsai and Wen-Shi Lee",

year = "2016",

month = sep,

day = "1",

language = "???core.languages.zh\_TW???",

type = "Patent",

note = "I549399",

}

TY - PAT

T1 - 以三維列印製造之導磁性元件

AU - Tsai, Mi-Ching

AU - Lee, Wen-Shi

PY - 2016/9/1

Y1 - 2016/9/1

N2 - 本發明提供一種以三維列印製造之導磁性元件，其係由一三維列印材料所形成，該三維列印材料包含一導磁性粒子和一熱塑性高分子。該三維列印製造之導磁性元件具有 25至275 emu/g 的飽和磁化量。

AB - 本發明提供一種以三維列印製造之導磁性元件，其係由一三維列印材料所形成，該三維列印材料包含一導磁性粒子和一熱塑性高分子。該三維列印製造之導磁性元件具有 25至275 emu/g 的飽和磁化量。

M3 - Patent

M1 - I549399

ER -