利用銅之氧化與蝕刻製作微米級細線寬銅質導線之方法

Wen-Shi Lee (Inventor)

研究成果: Patent

摘要

一種利用銅之氧化與蝕刻製作微米級細線寬銅質導線之方法,係利用銅之氧化特性,區隔出氧化與非氧化區,再利用高選擇比蝕刻液對金屬銅與銅氧化物化學反應差異,去除銅氧化物,留下所需之金屬銅膏細線圖形;不僅在步驟端省去光阻製程及網印製程之繁複條件,同時也降低金屬材料成本,並且,透過本發明可以更容易製作出高度更高之金屬細線,品質提升與成本降低之並進,對於量產型產品有顯著之經濟效益。
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專利號I583620
出版狀態Published - 1800

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