摘要
一種壓印(Imprinting)製程，至少包括提供一壓印模板，其中此壓印模板之一表面具有一圖案；形成一熱穩定高分子聚合物層覆蓋於上述壓印模板之表面上，其中此熱穩定高分子聚合物層填平壓印模板之圖案，而使熱穩定高分子聚合物層之表面上具有相對於圖案之互補圖案；形成一光阻層覆蓋於熱穩定高分子聚合物層上；形成一透明基材覆蓋在光阻層上；進行一照射步驟，藉以使光阻層產生聚合；移除壓印模板；以及進行一圖案化步驟，藉以將熱穩定高分子聚合物層上之互補圖案轉移至透明基材上。
| 原文 | ???core.languages.zh_TW??? |
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| 專利號 | I263870 |
| 出版狀態 | Published - 1800 |